Zanieczyszczenie PFAS w Tongeren rozprzestrzeniło się na sąsiednie działki – OVAM nie widzi zagrożenia dla ludzi

Zanieczyszczenie substancjami per- i polifluoroalkilowymi (PFAS) na terenie firmy Shamrock w Tongeren (Limburgia) przedostało się wraz z wodami gruntowymi na około dwadzieścia sąsiednich działek w strefie przemysłowej Tongeren-Oost. Potwierdziła to we wtorek agencji Belga flamandzka publiczna agencja ds. odpadów OVAM (Openbare Vlaamse Afvalstoffenmaatschappij). Jak podkreśla OVAM, przeprowadzona ocena nie wykazała zagrożenia toksykologicznego dla ludzi ani ryzyka ekologicznego dla wód gruntowych.

Problem znany od 2023 r.

Zanieczyszczenie wykryto już w 2023 r., gdy pomiary gazów emitowanych przez piece zakładu przetwarzającego teflon wykazały obecność PFAS. W 2025 r. ujawniono, że firma Shamrock rozdrabniała na miejscu odpady teflonowe, a następnie wysyłała je do Stanów Zjednoczonych, gdzie były poddawane napromieniowaniu. Później trafiały z powrotem do Tongeren, gdzie ponownie przerabiano je na proszek. OVAM nie została o tym poinformowana.

W 2025 r. w wodach gruntowych stwierdzono zbyt wysokie stężenia PFAS. Przeprowadzone później badanie gleby, którego wyniki Shamrock przedłożył w sierpniu, pokazuje obecnie, że zanieczyszczenie rozprzestrzeniło się dalej wraz z wodami gruntowymi.

Ryzyko dalszego rozprzestrzeniania

Podobnie jak w przypadku zanieczyszczenia PFAS w stałej części gleby, również zanieczyszczenie wód gruntowych wymaga przygotowania projektu rekultywacji – podkreśla Jan Verheyen z OVAM. – Ocena ryzyka wskazuje, że nie ma zagrożenia toksykologicznego dla ludzi ani ryzyka ekologicznego dla wód gruntowych. Ta sama ocena wskazuje jednak na ryzyko dalszego rozprzestrzeniania się zanieczyszczenia.

Do 1 listopada firma musi przedstawić OVAM projekt rekultywacji stałej części gleby. Ponieważ skażenie wód gruntowych zostało już potwierdzone, konieczne będzie również przygotowanie i złożenie odrębnego projektu dotyczącego ich rekultywacji. Termin na jego przedłożenie wyznaczono na 1 marca 2028 r.